英特尔1.8nm制程细节曝光
发布时间：2025-05-03 人气： 来源：外媒 关键词：英特尔
英特尔在2025年VLSI研讨会上披露了更多关于其最新的Intel 18A(1.8nm)制程的细节。
最新资料显示，Intel 18A提供了高性能(HP)和高密度(HD)库，具有全功能的技术设计功能和增强的设计易用性。
在PPA(性能、功耗、面积)比较中，Intel 18A在标准Arm核心架构的芯片上，1.1V电压下实现了25%的速度提升和36%的功耗降低。此外，Intel 18A的面积利用率比Intel 3更高，这意味着该制程可以实现更好的面积效率和更高密度设计的潜力。
英特尔官网此前公布的资料显示，Intel 18A采用了RibbonFET环绕栅极晶体管(GAA)技术，可实现电流的精确控制，同时还率先采用了业界首创的PowerVia背面供电技术。
英特尔还展示了电压下降图，描绘了高性能条件下节点的稳定性，由于Intel 18A的PowerVia供电技术，该制程能够提供更稳定的电力传输。
比较显示，通过背面供电技术，英特尔实现了更紧密的单元封装，并提高了面积效率，这主要是因为相比正面布线释放了更多空间。
从目前披露的信息来看，如果良率没有问题，Intel 18A制程将成为台积电2nm制程的有力竞争者。市场预计，Intel 18A将首先应用于Panther Lake SoC和Xeon的Clearwater Forest CPU，预计最早在2026年看到终端产品的出现。
资讯来源：外媒
免责声明： 本站内容转载自合作媒体、机构或其他网站的信息，转载此文仅出于传递更多信息的目的，但这并不意味着赞同其观点或证实其内容的真实性。本站所有信息仅供参考，不做交易和服务的根据。本站内容如有侵权或其它问题请及时告之，本网将及时修改或删除。凡以任何方式登录本网站或直接、间接使用本网站资料者，视为自愿接受本网站声明的约束。
下一篇：暂无